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1-(p-tolyl)-1H-benzo[b]thiophen-1-ium trifluoromethanesulfonate

ProductNum CAS No. MDL No. PubChem ID Formula MW Purity Appearance
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Product Name 1-(p-tolyl)-1H-benzo[b]thiophen-1-ium trifluoromethanesulfonate
CAS445298-29-3
ProductNumYH82019
FormulaC16H13F3O3S2
MW374.03

電子級1-(對甲苯基)-1H-苯并[b]噻吩鎓三氟甲磺酸鹽是一種性能優(yōu)異的光敏化合物,具有高化學純度和良好的熱穩(wěn)定性,適用于高端光刻工藝及微電子器件制造。其獨特的分子結構賦予材料優(yōu)異的光響應性能和低介電特性。

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【物理性質(zhì)】

基本信息

1)分子式:C16H13F3O3S2

2)分子量:374.03 g/mol

外觀與純度

1)外觀:白色至淺黃色粉末。

2)純度:≥99.5%(電子級)。

物理參數(shù)

1)熔點:150–180°C

2)溶解性:易溶于丙酮、乙腈等常見有機溶劑。

3)熱穩(wěn)定性:高溫下表現(xiàn)出優(yōu)異的穩(wěn)定性,不易分解。

4)光響應性:在深紫外區(qū)域(DUV)具有高光吸收率。

【應用領域】

光刻工藝

1)用于先進光刻膠配方,增強光刻膠的化學放大效應和顯影分辨率。

2)適用于深紫外(DUV)和極紫外(EUV)光刻技術,提升成像質(zhì)量。

電子元件制造

1)在半導體加工中用作光敏引發(fā)劑,支持復雜電路圖形的高精度加工。

2)應用于微電子封裝材料,提高絕緣性和耐熱性能。

功能性涂層材料

1)用于開發(fā)高透明性和高耐用性的光學涂層。

2)在顯示器行業(yè)中,用于制備低反射、高透光性的薄膜材料。

【總結】

電子級1-(對甲苯基)-1H-苯并[b]噻吩鎓三氟甲磺酸鹽憑借其高純度和優(yōu)異的光化學特性,是現(xiàn)代微電子和光刻工藝中不可或缺的核心材料,為高性能電子產(chǎn)品的制造提供了重要支持。


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