電子級(jí)三(4-叔丁基苯基)锍三氟甲磺酸鹽是一種高純度的光致產(chǎn)酸劑，具有獨(dú)特的分子結(jié)構(gòu)和卓越的光化學(xué)性能，專為高端光刻工藝設(shè)計(jì)。該產(chǎn)品在深紫外（DUV）和極紫外（EUV）光刻中表現(xiàn)出高效的酸生成效率，能夠顯著提高光刻膠的靈敏度和分辨率。其高純度特性使其特別適用于半導(dǎo)體制造中的先進(jìn)制程工藝。

如果需要了解更多產(chǎn)品信息請通過微信或QQ與我們?nèi)〉寐?lián)系，我們的團(tuán)隊(duì)將為您提供一對(duì)一的咨詢服務(wù)。

QQ：3956182849

微信：

【物理性質(zhì)】

基本性質(zhì)

化學(xué)名稱：三(4-叔丁基苯基)锍三氟甲磺酸鹽

分子式：C₃₁H₃₉F₃O₃S₂

分子量：580.77 g/mol

外觀與溶解性

外觀：白色至淺黃色粉末或結(jié)晶

溶解性：易溶于極性有機(jī)溶劑（如丙酮、乙腈、DMF），微溶于非極性溶劑

熱穩(wěn)定性與儲(chǔ)存條件

熔點(diǎn)：約210℃

儲(chǔ)存條件：密封避光，低溫儲(chǔ)存（≤25℃），避免濕氣和氧化環(huán)境

【應(yīng)用領(lǐng)域】

光刻膠材料

用作高性能光刻膠的關(guān)鍵光致產(chǎn)酸劑，有助于提升光刻圖案的分辨率和邊緣銳度。

（1）在ArF和KrF光刻膠配方中，提供優(yōu)異的酸生成效率。

（2）適配EUV光刻膠工藝，滿足半導(dǎo)體先進(jìn)制程需求。

半導(dǎo)體制造

在微電子加工中，優(yōu)化光刻工藝的顯影效果和線寬控制能力。

（1）適用于集成電路制造中的高精度圖案轉(zhuǎn)移。

（2）支持高密度封裝和小型化器件生產(chǎn)，提升加工良率。

光敏材料研發(fā)

用于開發(fā)功能性光敏材料，適配多種先進(jìn)電子應(yīng)用場景。

（1）提升光敏材料的穩(wěn)定性與靈敏度，優(yōu)化工藝性能。

（2）滿足顯示器、傳感器等領(lǐng)域?qū)Ω叻直媛什牧系男枨蟆?/span>