電子級產(chǎn)酸劑PAG 203是一種高純度光致產(chǎn)酸劑，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻膠體系中。其獨特的光化學(xué)性能和優(yōu)異的熱穩(wěn)定性，使其能夠在紫外（UV）至深紫外（DUV）波段實現(xiàn)高效的酸生成，適配先進光刻工藝對高靈敏度和高分辨率的需求。該產(chǎn)品滿足高端電子材料對純度和性能的嚴格要求，是提升光刻膠性能的關(guān)鍵組分之一。

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【物理性質(zhì)】

基本性質(zhì)

化學(xué)名稱：PAG 203

分子量：662.62 g/mol

分子式：C₂₅H₂₈O₈N₂F₆S₂

外觀：白色至淺黃色粉末或晶體

光化學(xué)性能

光譜吸收范圍：深紫外（DUV）至極紫外（EUV）波段

產(chǎn)酸效率：高光解效率，酸產(chǎn)量穩(wěn)定

熱穩(wěn)定性與儲存條件

熔點：根據(jù)結(jié)構(gòu)優(yōu)化，通常大于150℃

儲存條件：密封避光，低溫儲存（≤25℃），避免濕氣和氧化環(huán)境

【應(yīng)用領(lǐng)域】

光刻膠制備

作為關(guān)鍵的光致產(chǎn)酸劑，PAG 203能夠在光刻膠中顯著提高光敏性能。

（1）適用于ArF、KrF等DUV光刻工藝，支持高分辨率納米級圖案制造。

（2）在EUV光刻中表現(xiàn)出優(yōu)異的酸生成效率，提升膠體顯影性能。

微電子加工

廣泛應(yīng)用于集成電路制造中的高精度圖案轉(zhuǎn)移工藝。

（1）優(yōu)化器件線寬控制，滿足高密度集成電路需求。

（2）提升曝光和顯影過程中的圖形清晰度與穩(wěn)定性。

特殊電子材料開發(fā)

在功能性光刻材料和敏化劑的研發(fā)中，PAG 203是重要原料。

（1）應(yīng)用于光刻膠配方優(yōu)化，提升材料化學(xué)惰性與穩(wěn)定性。

（2）適配顯示器、傳感器等領(lǐng)域的高性能電子材料需求。